Scheinbar können die Designer auf der New Yorker Modewoche nicht genug von Mathematik kriegen. Und obwohl es in der Schule mein absolutes Hassfach war, kann ich ihre Faszination irgendwie nachvollziehen. Immerhin können grafische Schnitte und geometrische Prints Spannung in die einfachsten Outfits bringen. Das sahen wir spätestens als Dolce & Gabbana ihre Models in All-Over-Streifen und Marc Jacobs seine für Louis Vuitton in Kästchen-Ensembles für den kommenden Sommer über den Laufsteg schickten. Etwas gemächlicher, doch nicht minder interessant geht es bei den Designs im Herbst/Winter 2013 zu. Dann ziehen einzelne Kleidungsstücke durch starke grafische Muster und Applikationen die Aufmerksamkeit auf sich und sicherlich auch uns.
Stylings von Kopf bis Fuß gab es für euch schon am Donnerstag. Mutiger und reizvoller wird das Outfit noch, wenn man unterschiedliche Muster wild durcheinander mixt und so einen ganz individuellen Look kreiert. Als Meister darin entpuppte sich J. Crew, der nicht nur verschiedene Prints kombinierte, sondern zusätzlich noch kräftigte Farben sowie glamouröse Materialien und Applikationen wählte. Alltagstauglichere Looks boten hingegen Ostwald Helgason und mein Favorit Suno, wo klassische Nadelstreifen mit romantischen Blumen und gestepptem Karo aufgepeppt wurden.
Nach Colour Blocking und Pastel mixen die Designer beide Strömungen kurzerhand zusammen und erhalten so spannende Schattierungen, die simple Hemdkleider in wahre Hingucker verwandeln. Noch etwas weiter geht dabei Sally LaPointe, die die winterlichen Trendfarben Weiß und Rot verschwimmen lässt. Gewagt (es mag wohl auch am dazu kombinierten Leder in den genannten Farben liegen) sieht diese Kombination allemal aus und besticht dennoch, vielleicht durch den Schneewittchen-Teint der Models, mit einer zarten Note, oder was sagt ihr?
Photos: GoRunway
